真空镀膜设备(CVD/PVD)

真空镀膜设备(CVD/PVD)主要用于薄膜沉积工艺,是一连串涉及原子的吸附,吸附原子在表面的扩散及在适当的位置下聚结,在晶圆上沉积一层待处理的薄膜的过程。

外延工艺是SIC产业链中非常关键的工艺环节,由于器件基本上都是在外延上实现,所以外延的质量对器件性能的影响非常大,但是外延的质量又受到晶体和衬底加工的影响,处在一个产业的中间核心环节,对产业的发展有着非常关键的作用。