真空镀膜设备（CVD/PVD）主要用于薄膜沉积工艺，是一连串涉及原子的吸附，吸附原子在表面的扩散及在适当的位置下聚结，在晶圆上沉积一层待处理的薄膜的过程。

产品列表

真空烤盘炉

APCVD 常压化学气相沉积

碳化硅单晶炉