恒普烤盘炉
真空烤盘炉为LED制造行业的一种新型的真空设备，是与MOCVD设备配套使用炉体。使用时炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体： N2，H2)。主要用于有效清除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。
产品优势
■ 适用范围
- 烤盘炉设备主要应用于LED行业，如：LED再生晶圆的清理，MOCVD石墨盘等石墨治具烘烤。
■ 设计特点
- 后炉门装配散热风机，通过气体介质加快隔热层内与水冷壁之间的热交换，从而达到快速降温的目的。
■ 需求化定制
- 新场地布局设计、基础管线改造、特定功能增设、需求尺寸定制。
真空烤盘炉为LED制造行业的一种新型的真空设备，是与MOCVD设备配套使用炉体。使用时炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体： N2，H2)。主要用于有效清除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。
- 安装尺寸（mm）3500×W3300×2400（L×W×H）
- 料盘尺寸（mm）Φ716×H16
- 有效空间（mm）790×790×1500
- 载重量（kg）450kg
- 加热功率（KVA）170KVA
- 极限真空度（Torr）7×10-3Torr
- 使用温度（℃）1450℃
- 泄露率≤1.33×10-4Pa.m3/s
- 电源种类3相4线 AC380V
- 极限温度（℃）1500℃
- 温度均匀性≤±5℃