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■ 适用范围

  • 烤盘炉设备主要应用于LED行业,如:LED再生晶圆的清理,MOCVD石墨盘等石墨治具烘烤。

设计特点

  • 后炉门装配散热风机,通过气体介质加快隔热层内与水冷壁之间的热交换,从而达到快速降温的目的。

■ 需求化定制

  • 新场地布局设计、基础管线改造、特定功能增设、需求尺寸定制。

真空烤盘炉为LED制造行业的一种新型的真空设备,是与MOCVD设备配套使用炉体。使用时炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体: N2,H2)。主要用于有效清除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。

恒普烤盘炉
  • 安装尺寸(mm)3500×W3300×2400(L×W×H)
  • 料盘尺寸(mm)Φ716×H16
  • 有效空间(mm)790×790×1500
  • 载重量(kg)450kg
  • 加热功率(KVA)170KVA
  • 极限真空度(Torr)7×10-3Torr
  • 使用温度(℃)1450℃
  • 泄露率≤1.33×10-4Pa.m3/s
  • 电源种类3相4线 AC380V
  • 极限温度(℃)1500℃
  • 温度均匀性≤±5℃